埃微泰

目前显微成像领域，应用最多的就是无限远成像光路。该光路由无限远校正物镜和一个筒镜（tube lnes）组成。如右图所示，物体在物镜焦点处发出的光经过物镜后将变成平行光，平行光经筒镜后聚焦在筒镜的焦点处。无限远光路中，物镜和筒镜之间的这段距离被统称为“无限空间”（infinity space），可以在这个“无限空间”内按需添加荧光滤片组、偏光镜、传感对焦等功能模块，便于实现显微镜的升级和扩展。

一套镜头系统中，显微物镜的集光、聚光能力决定了光学图像质量的上限。通常通过以下这几个基础参数来说明、衡量一个物镜的光学性能：

▶ 光学放大倍数：物镜出厂时标注的倍数通常为生产厂家按自家镜筒焦距设计后得出的倍数，在无限远的成像系统中，放大倍率为镜筒透镜焦距与物镜焦距之比。

▶ NA值：数值孔径，代表物镜的通光孔径，这决定最终图像的分辨率、景深和亮度。 N.A. 越大，分辨率越高，景深越小。

▶ 工作距离：光聚焦时样品表面与物镜之间的距离（物距）。

▶ 分辨率：可作为单独实体区分的点或线之间的最小距离。分辨率越高，数值越小，能观测到物体更细节的部分；用作聚焦的话，可以聚焦到更小的光斑。

▶ 齐焦距离：光聚焦时样品表面与物镜安装位置之间的距离。物镜通常有95mm齐焦、45mm齐焦、60mm齐焦等。齐焦长度一样的物镜，在相互更换的时候只需要对焦点位置微调就可以。

此外，我们还会通过以下几个属性来对物镜进行分类：

最佳成像波段：不同工作波段设计的物镜，只有在对应的工作波段才能呈现最佳的光学传输性能。

我们通常把物镜的工作波段分为

▶ NUV（近紫外355nm）

▶ VIS（可见光435 – 655nm）

▶ NIR（近红外~1800nm）

按不同的成像波段为用户提供多种物镜选项，这些物镜均为无限远设计，可以搭配任意规格的显微镜筒，协助用户轻松搭建无限远成像系统：

可见光是人眼可以感知的光波，波长范围大约在433nm到655nm之间。在这个波段内，我们可为用户提供不同齐焦规格和特殊设计的超清大视野显微物镜系列。齐焦长度一样的物镜，在相互更换的时候只需要对焦点位置微调就可以。

▶ 95mm齐焦距离 长工作距离物镜

该系列物镜均为无限远校正平场复消色差设计，适用于明场工业成像，半导体封装/检测、自动化检测设备、激光光路搭建等要求实现长工作距离、高精度的成像检测领域。

详细规格如下：

▶ 60mm齐焦距离

该系列物镜为无限远校正，平场半复消色差物镜，可为应用呈现高成像对比度，适用于同轴照明的工业成像、DIC观测应用。     

详细如下：

▶ 45mm齐焦距离

该系列物镜为精简、小体积设计，能够最大限度帮助应用节省安装空间，规格多样，适用于小型自动化工业、生物成像检测设备。

具体规格参数请见下表：

在工业检测和生物成像领域中，成像系统一次成像的区域越大意味着检测设备需要的检测时间就越少，效率的提升能够为工业和设备集成商用户带来更高的经济效益和竞争力，为科研用户降低光毒性，争取到更多的探索空间。

特点：

▶ 该系列物镜均为无限远复消色差设计，保证卓越的光学成像质量。

▶ 相对于标准物镜，各个倍数的NA值都进行了特殊设计，远高于同等倍数下的常规物镜。只需搭配宽视场定倍光学镜筒，即可在提升解析度的同时，扩大成像系统一次性成像的视野，提升设备成像检测效率。

物镜详细参数如下：

近红外光是指波长在850~1550nm波段的光。该波段的光具有较强的穿透能力，比如硅材料在这个光谱响应区间呈透明状态，常用在如半导体封装/对位，隐裂等缺陷检测环节的工作中。埃微泰为用户提供NIR波段物镜选项，再结合我们的近红外相机、镜头及照明，即可一站式整合近红外的显微成像系统。

特点：

▶ 可以捕获温度分布和像素信息等信息并将其显示为热图像。

▶ 可确保在宽工作温度范围内具有良好的成像质量，并在宽视场内具有高分辨率。

▶ 对可见区（常用观察波长区）到近红外区（波长~1800nm）进行了校正设计

▶ 高分辨力规格，与（标准型对比）分辨力提供约50%以上

▶ 明视场观察及激光加工用

该系列物镜的规格参数如下：

10nm-400nm之间的电磁波被统称为紫外光。这一波段的光波长较短，穿透力较弱，适合用于检测到材料表面的细微瑕疵。近紫外光也更容易被一些更容易被有机材料吸收，比如蛋白质在280nm波段就存在吸收峰。埃微泰为用户提供NUV物镜系列，该系列物镜适用于半导体晶圆表面检测、蛋白质结晶观察、激光加工等应用。

特点：

▶ 明视场观察及激光加工用

▶ 平场复消色差规格

▶ 对近紫外光区（波长335nm）到可见区（常用观察波长区）进行了校正设计

▶ 高分辨力规格，与（标准型对比）分辨力提供约50%以上

该系列的规格详情请见下表：

如您需要更多物镜的选型或应用案例信息，请与技术支持联系。